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高純度碳化硅粉料合成技術

將固態的高純的 Si源 和高純的 C源 作為原料,使其在 1400~2000℃ 的高溫下持續反應,最后得到高純SiC粉體。合成過程中涉及的原輔料,純度均在 6.5N以上,關鍵雜質元素 B、Al、V、Ti、Fe、W 和 Mo 等均小于 0.05ppm

相關專利:

  • ZL202223108629.7,一種用于高純碳化硅顆粒除碳的裝置
  • ZL202222282311.4,一種用于高純碳化硅原料合成的裝置
  • ZL202223114406.1,一種用于高純石墨粉排氮的石墨裝置

“半粘半夾持”式籽晶固定與超聲噴涂籽晶粘結技術

創新性提出“半粘半夾持技術”,簡化籽晶粘結工作的同時,減少晶體應力。提高高溫下的膠水的殘炭率,采用 超聲波霧化噴涂技術,將行業傳統的手動粘結替代為設備噴涂粘結,一次粘結合格率從 45% 提高到 75% 以上

將籽晶與石墨紙粘結固定,實現夾持石墨紙而不夾持籽晶的技術。粘紙結構減少石墨托方案的后期應力,且能有效避免夾持籽晶的缺陷及利用率低的問題,可生產較厚的高質量晶體。

相關專利:

  • ZL202223422652.3,晶體側環及晶體生長裝置
  • ZL202320163044.0,一種籽晶懸掛結構及晶體生長裝置
  • ZL202311121092.4,一種碳化硅籽晶粘結方法

“自犧牲”式多孔石墨與“超耐腐蝕”涂層石墨技術

提出粉料區“自犧牲”式多孔石墨組件來穩定長晶初期“硅逃逸”、長晶區 涂層石墨件 來抵抗“硅腐蝕”、“梯度式”裝料穩定長晶過程中“碳硅比”技術,實現 6-8英寸 晶體快速生長,生長速度 提高40%以上,晶片碳包裹合格率由 80% 提高到 95% 以上

相關專利:

  • ZL202310142259.9,碳化硅晶體生長裝置、其過濾材料以及過濾材料的制備方法

石墨發熱筒上端輻射加熱技術

石墨“筒狀輻射發熱” 替代坩堝上方軟、硬氈的保溫熱場,減少熱場上端的腐蝕,同時避免爐次與爐次之間的溫度波動,提高熱場壽命與熱場穩定性。熱場平均壽命可 提高80%以上

相關專利:

  • ZL202122817775.6,一種碳化硅晶體生長裝置
  • ZL202310857385.2,N型碳化硅晶體、制備方法及生長裝置

“石墨翅片”換熱技術

提出“石墨翅片”組件的溫度調節裝置,相對于石墨環表面積 提高277%,換熱效應 提高127%。以此替代石墨氈調整溫度梯度,避免石墨氈在高溫下收縮、硅腐蝕等行業難題,實現“相似型饅頭面”的生長方式,提高晶體質量與穩定性。

相關專利:

  • ZL202222904375.3,一種坩堝及碳化硅長晶裝置

高效率、高良率、低成本的切片加工技術

我司業內首推 0.105mm 螺旋線 進行SiC砂漿切割。我司加工時間已縮短至 80小時,切割效率 提高38%。通過對線切單位面積切割力計算和測試,我司0.105mm螺旋線用線量已經降低至 1.2km/pcs,損耗 減少60%以上。我司單刀裝載量為 300pcs/刀,裝載量 提升50%,且良率在 99.5% 以上

通過對碳化硅線切的深入研究,開發了高效率、低成本的線切加工方式。

相關專利:

  • ZL202211697888.X,碳化硅晶片多線切割方法